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永利yl23411本科生谭天龙在《ACS Applied Materials & Interfaces》期刊上发表高水平论文

作者: 瞿建、蒋军   审核人: 唐浩   文章来源:    点击数:   发布时间: 2026-06-17

近日,永利yl234112022级材料物理专业本科生谭天龙同学在《ACS Applied Materials & Interfaces》(2026, 18, 8165-8175)上以第一作者身份发表了题为《Sub-5 nm Cu Clusters for Efficient CO2-to-C2H4 Conversion: Synergistic Microstructure and Catalytic Microenvironment》的论文,第一通讯作者为王珏副教授,第一单位为永利yl23411。该期刊为中科院二区TOP期刊(IF=8.2)。

电化学CO2还原反应是实现碳中和的重要途径之一。针对铜基催化剂对乙烯选择性偏低的难题,本研究采用团簇束流沉积技术,成功制备了尺寸均一(<5 nm)的铜团簇,并将其负载于Cu/PTFE基底上,揭示了铜簇诱导的局域电场对界面物种(K⁺、OH⁻、*CO)的富集与稳定作用。结果表明,优化的铜簇催化剂在50~180 mA cm-2的宽电流密度范围内,将CO2还原为乙烯的法拉第效率提升至50%以上。该工作为通过初始纳米结构设计调控催化微环境、促进C-C偶联提供了新策略。

本研究得到了国家自然科学基金(11904311,12274361,12474276,12104391)和江苏省高等学校自然科学基金(25KJA430015)等项目的支持。

原文链接:https://doi.org/10.1021/acsami.5c22053